VEStudio虛擬仿真創(chuàng)作平臺(tái)特性：
【全新引擎升級(jí)】
支持DX,更好的兼容性。
支持WinXP，Win7操作系統(tǒng)。
支持32位、64位的MAX插件。
子屬性編輯。
自動(dòng)dds紋理優(yōu)化工具。
PS聯(lián)動(dòng)編輯紋理實(shí)時(shí)修改。
【次世代畫(huà)面】
實(shí)時(shí)光影、霧效、凹凸、offsetting、反射貼圖、BLOOM、SSAO、DOF、GodRays特效、水面、鏡面、環(huán)境反射渲染。
【組件式場(chǎng)景搭建】
標(biāo)準(zhǔn)模型、庫(kù)模型、粒子模板、材質(zhì)模板。
【材質(zhì)系統(tǒng)】
次世代、水面、混合（支持MAX合成材質(zhì)導(dǎo)出為VES的混合材質(zhì)。）、swf材質(zhì)（場(chǎng)景中視頻如電視畫(huà)面、等離子廣告）、玻璃、天空、卡通等。
【粒子系統(tǒng)】
可視化編輯。
【物理碰撞】
碰撞導(dǎo)航、角色漫游導(dǎo)航、人工智能。
【全新GUI界面與腳本交互】
支持Flash格式GUI界面、自定義菜單交互、鼠標(biāo)交互、界面自動(dòng)縮放。
【主模塊】
人工智能（Artificial Intelligence）、交互物體、體積云、海洋模塊、海量場(chǎng)景。
【場(chǎng)景發(fā)布】
數(shù)據(jù)安全：
場(chǎng)景加密輸出、版權(quán)聲明保護(hù) 。
網(wǎng)頁(yè)發(fā)布：
自動(dòng)更新主程序、場(chǎng)景緩存模式、智能化便捷的發(fā)布模式。
【教程指南】
軟件附帶全新chm幫助文檔、平臺(tái)自帶多個(gè)可編輯案例場(chǎng)景。
VEStudio2.2正式版：
繼續(xù)修改了Alpha版以后已知的Bug。
修改提升了陰影的效率。
增加了PS特效。
增加了頂點(diǎn)/紋理動(dòng)畫(huà)及相關(guān)腳本函數(shù)。
增加了高光貼圖支持。
增加了SketchUp的模型導(dǎo)出插件。
增加了例子[動(dòng)畫(huà)大觀]。
支持自定義加載界面。
…
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